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熔融石英坩堝的燒成工藝特點(diǎn)與發(fā)展趨勢(shì)

點(diǎn)擊次數(shù):   更新時(shí)間:19/09/20 10:43:09     來源:www.431mf.cn關(guān)閉分    享:
  石英坩堝具有高的純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn),應(yīng)用越來越廣泛。石英坩堝的檢測(cè)工作是一個(gè)十分重要的環(huán)節(jié),而且石英坩堝的檢測(cè)朝向現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)方向發(fā)展
   多晶硅鑄錠用石英坩堝的生產(chǎn)過程對(duì)燒制環(huán)節(jié)提出了嚴(yán)格的工藝要求,特別是用于準(zhǔn)單晶鑄錠用的熔融石英坩堝。
   多晶硅鑄錠用石英坩堝的形態(tài)上的發(fā)展趨勢(shì)是:大件、壁薄、涼卻過程初始需要快速?zèng)鰠s。準(zhǔn)單晶鑄錠用的熔融石英坩堝還對(duì)產(chǎn)品提出了更高的綜合性能,如更好的強(qiáng)度與熱傳導(dǎo)性、更低的顯氣孔率與熱膨脹系數(shù)、更均勻的密度分布等等。
   對(duì)此,業(yè)界窯爐新推出了"復(fù)合脈沖燃燒控制技術(shù)"和"快速?zèng)鰠s系統(tǒng)",并將其應(yīng)用至石英方坩堝窯爐設(shè)備中,能使大件壁薄的石英方坩堝制品在升溫與保溫過程獲得更均勻的熱場(chǎng)和快速的涼卻速度,大大提高石英方坩堝的燒成合格率。
   石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。

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